FT:中国大陆成功以升级DUV设备突围 提高AI晶片产量
英国金融时报(FT)报导,中国大陆已成功借由升级艾司摩尔(ASML)的深紫外光(DUV)微影设备,提高人工智慧(AI)晶片产量,凸显中国大陆晶片制造商正设法克服出口管制。
报导引述知情人士指出,中国大陆生产智慧手机与AI晶片的晶圆厂,已强化ASML DUV微影设备的效能。美国与荷兰的出口管制使ASML无法供应最先进DUV设备到中国大陆,迫使许多中国大陆晶圆厂依赖旧款设备,特别是 Twinscan NXT:1980i 系统,制造开发AI系统所需的7奈米晶片。
知悉相关技术的知情人士表示,中国大陆晶圆厂已从二手市场获得关键零组件,包括升级版的矽晶圆机械平台模组(Stage),及有助确保晶片层叠能以更高精确度对齐的透镜与感测器。
中国大陆晶圆厂已运用对ASML DUV设备的改进,取得提高AI晶片产能的能力。目前传出以旧款ASML设备打造7奈米晶片生产线的业者,包括中芯国际(SMIC)与华为,但还不清楚这两家公司是否已取得更进一步的零组件升级。
在目前的规范机制下,ASML能提供中国大陆客户维护现有设备的工程支援,但被限制提供「对准精度」升级的服务,也被限制从事任何能提高设备「产出」(Throughput)超过1%的改动。
不过,报导引述多位知悉相关安排的知情人士指出,中国大陆晶圆厂从海外采购零组件并运往中国大陆,由第三方公司提供现场工程服务,升级现有的DUV设备。
ASML表示,该公司「完全遵守所有适用的法律与法规…严格在这些法律架构下运作,不支援任何能让客户提高设备效能至法律许可范围之外的系统升级。」
ASML也被禁止供应极紫外光(EUV)微影设备给中国大陆,使中国大陆晶圆厂须以「多重图案化」(Multi-patterning)技术生产先进晶片,但这种方法需要更长的机器运作时间,提高生产成本,也会降低良率。
知情人士表示,中国大陆晶圆厂已透过零组件升级,缓解部...

